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双面对准曝光机

双面对准曝光机曝光机
资源类型:
仪器仪表
仪器型号:
ABM/6/350/NUV/DCCD/BSV/M
品牌/厂家:
美国ABM,Inc
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服务资源详情

  功能介绍

  可以实现各种非标准基片曝光、复杂微纳图案、正反双面曝光、制备微电子器件、多层硅通孔器件、柔性电子器件、MEMS器件。

  主要技术参数

  ·350W近紫外光源(365nm/405nm/436nm),具有恒定光强与恒定功率两种控制模式可调节。

  ·均匀光束面积不小于6英寸。

  ·光强均匀性:<±1% 直径 2”区域;<±2% 直径 4”区域;<±3% 直径 6”区域

  ·输出强度:365 nm光强输出强度>20mW/cm2;或400 nm光强输出强度>40mW/cm2

  ·光学系统具抗反射涂层以及消除衍射效应的功能。

  ·设备本身具有365nm线与400nm线光强探测功能以及反馈调节功能。

  ·光束发散半角不大于2°

  ·具有安全报警和自我保护功能。

  ·具有三种曝光模式:硬接触,软接触,间隙式。

  ·支持正胶,负胶SU8等厚胶工艺

  ·在一微米厚度的正胶条件下线宽制备能力:<0.5μm ——硬接触; <0.8μm——软接触;<1μm——间隔50微米; <2μm——间隔100微米

  ·正面对准精度优于±1.0μm,背面对准精度优于±2.0μm

  ·采用双CCD对位系统,图像放大倍率在100倍-850倍范围内连续可调。

  ·能完成最小到15mm晶圆双目双视场的同时对准。

  ·通过更换夹具能完成4-6英寸晶圆的光刻。

  ·系统应具备电控和启动的控制操作面板。

所属服务
可接单

柔性电子制造

柔性电子...电子制造设备制造